鍍膜玻璃工藝流程

詳細介紹

鍍膜玻璃廠的工藝流程
玻(bo)(bo)璃(li)鍍(du)膜就是在玻(bo)(bo)璃(li)表面涂渡一層(ceng)或多(duo)層(ceng)金屬膜或金屬化合物，以改變玻(bo)(bo)璃(li)光學性能(neng)。鍍(du)膜玻(bo)(bo)璃(li)廠
玻璃鍍膜的(de)方法分為四類：
化(hua)學沉積法(fa)、熱蒸發(fa)鍍(du)、機械（包括噴涂(tu)和(he)浸漬兩種(zhong)方法(fa)）以及目前(qian)比(bi)較先進的(de)磁控賤射鍍(du)膜。這些(xie)技術的(de)原理和(he)設備都不(bu)一樣，也不(bu)能互換。鍍(du)膜玻(bo)璃(li)生(sheng)產方法(fa)都是在(zai)玻(bo)璃(li)表面(mian)涂(tu)以金(jin)(jin)、銀、銅、鋁、鎳、鐵錫等金(jin)(jin)屬(shu)，金(jin)(jin)屬(shu)氧(yang)化(hua)物(wu)(wu)或非金(jin)(jin)屬(shu)氧(yang)化(hua)物(wu)(wu)薄(bo)膜：或采用電浮法(fa)、等離子法(fa)，像玻(bo)璃(li)表面(mian)層(ceng)深入金(jin)(jin)屬(shu)離子以置(zhi)換玻(bo)璃(li)表面(mian)層(ceng)原有的(de)離子而形成(cheng)的(de)陽光控制(zhi)鍍(du)膜。鍍(du)膜前(qian)清(qing)洗(xi)(xi)鍍(du)膜前(qian)清(qing)洗(xi)(xi)的(de)主要(yao)(yao)污(wu)(wu)染物(wu)(wu)是油污(wu)(wu)、手印、灰(hui)塵等。由于鍍(du)膜工序(xu)對(dui)鏡片潔凈(jing)度的(de)要(yao)(yao)求極為(wei)嚴格，因(yin)此清(qing)洗(xi)(xi)劑的(de)選擇是很重要(yao)(yao)的(de)。
在(zai)考(kao)慮某種(zhong)清洗(xi)劑的清洗(xi)能(neng)力的同時，還要(yao)考(kao)慮到(dao)他的腐蝕(shi)性等方(fang)面的問(wen)題。分為有機溶劑清洗(xi)和(he)半水基清洗(xi)。
有(you)機溶劑(ji)清洗(xi)(xi)采用(yong)的(de)清洗(xi)(xi)流(liu)程如下：有(you)機溶劑(ji)清洗(xi)(xi)劑(ji)（超(chao)聲波(bo)）-水(shui)基清洗(xi)(xi)劑(ji)（超(chao)聲波(bo)）-市(shi)水(shui)漂洗(xi)(xi)-純水(shui)漂洗(xi)(xi)-IPA（異(yi)丙醇）脫水(shui)-IPA慢拉(la)干燥(zao)。
半水(shui)(shui)基(ji)(ji)清(qing)洗(xi)采用(yong)的清(qing)洗(xi)流程如下：半水(shui)(shui)基(ji)(ji)清(qing)洗(xi)劑(ji)（超聲波）-市水(shui)(shui)漂(piao)洗(xi)-水(shui)(shui)基(ji)(ji)清(qing)洗(xi)劑(ji)-市水(shui)(shui)漂(piao)洗(xi)-純水(shui)(shui)漂(piao)洗(xi)-IPA脫(tuo)水(shui)(shui)-IPA慢拉干燥真空(kong)(kong)蒸(zheng)(zheng)發(fa)鍍膜(mo)是將被鍍零件和膜(mo)層材(cai)料，以一定的相對位(wei)置(zhi)，放在一個真空(kong)(kong)空(kong)(kong) 間，采用(yong)一定的方法，使(shi)膜(mo)料氣化或升(sheng)華，形(xing)成(cheng)具有一定動(dong)能的分子(zi)(zi)（原子(zi)(zi)或離子(zi)(zi)），離開(kai)蒸(zheng)(zheng)發(fa)器(qi)飛向被鍍零件表面，在表面上(shang)淀積形(xing)成(cheng)薄膜(mo)。真空(kong)(kong)蒸(zheng)(zheng)發(fa)包(bao)括三(san)個主(zhu)(zhu)要(yao)系統(tong)(tong)：真空(kong)(kong)系統(tong)(tong)、蒸(zheng)(zheng)發(fa)系統(tong)(tong)、膜(mo)厚(hou)(hou)監控系統(tong)(tong)。其(qi)中真空(kong)(kong)系統(tong)(tong)由(you)真空(kong)(kong)室(shi)、機械泵、分子(zi)(zi)泵（油擴散泵）、管(guan)道、閥(fa)門、真空(kong)(kong)測量裝置(zhi)等部分組(zu)成(cheng)。蒸(zheng)(zheng)發(fa)系統(tong)(tong)采用(yong)電子(zi)(zi)槍蒸(zheng)(zheng)發(fa)，其(qi)主(zhu)(zhu)要(yao)由(you)燈絲、高壓線圈(quan)、偏轉線圈(quan)、坩堝等組(zu)成(cheng)。膜(mo)厚(hou)(hou)監控系統(tong)(tong)采用(yong)光電極值法，其(qi)主(zhu)(zhu)要(yao)由(you)光源、比較片、單色儀、光電倍(bei)增管(guan)、膜(mo)厚(hou)(hou)控制(zhi)儀及穩(wen)流穩(wen)壓電源組(zu)成(cheng)。磁濺射(she)是先(xian)對玻璃(li)進(jin)行清(qing)洗(xi)，在高真空(kong)(kong)倉(cang)室(shi)的靶材(cai)賤射(she)區經過(guo)靶材(cai)離子(zi)(zi)賤射(she)而鍍膜(mo)的。